生产型ALD
Company Profile

KMT-500S原子层沉积系统

 

 

一、设备概述:
        KMT-500S原子层沉积系统是专门为工业化中试而研制的全自动生产型单腔原子层沉积系统。该系统配备多种材料的标准沉积工艺配方,满足工业应用需求。

二、产品优势:
       先进的软件控制系统:系统集工艺配方、参数设置、权限设定、互锁报警、状态监控等功能于一体;

三、技术指标:
       基片尺寸 8英寸及以下
       基片加热温度 室温~500℃,控制精度±0.1℃
       前驱体输运系统 标准2路前驱体管路,可选配
       前驱体管路温度 室温~200℃,控制精度±0.1℃
       源瓶加热温度 室温~200℃,控制精度±0.1℃
       ALD阀 Swagelok快速高温ALD专用阀
       本底真空 <5*10-3Torr,进口防腐泵
       载气系统 N2或者Ar
       处理能力 500片8英寸
       生长模式 连续高速沉积模式
       控制系统 PLC+触摸屏或者显示器
       电源 50-60Hz, 380V/40A交流电源
       沉积非均匀性 非均匀性<±1% 片间非均匀性 <±1.5%
       设备尺寸 1400mmx800mmx2000mm

四、可沉积薄膜种类:
       单 质:Co, Cu, Ta, Ti, W, Ge, Pt, Ru, Ni, Fe…
       氮化物:TiN, SiN, AlN, TaN, ZrN, HfN, WN …
       氧化物:TiO2, HfO2, SiO2, ZnO, ZrO2, Al2O3, La2O3, SnO2
       其它化合物:GaAs, AlP, InP, GaP, InAs, LaHfxOy, SrTiO3,SrTaO6

五、ALD应用实例:
       高K栅氧化层,存储容性电介质,铜互连中高深宽比扩散阻挡层,OLED无针孔钝化层,MEMS的高均匀镀膜,纳米多孔结构镀膜,特种光纤掺杂,太阳能电池,平板显示器,光学薄膜,其它各类特殊结构纳米薄膜