粉末型(P-ALD)
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科民电子研发的粉末镀膜设备为三腔结构,真空腔体内部放置一个粉末镀膜反应腔,粉末镀膜反应腔内部包含有最多4个独立的样品仓,可一次沉积4种不同的粉末品。采用精密的反应气场控制,可以同时在四种不同纳米粉末上均匀生长薄膜材料;ALD反应所需的前驱体源通过两个独立的进气通道进入粉末镀膜反应腔,在经过样品仓后通出。避免了CVD反应,气流带动粉末在样品仓内进行轻微运动,使ALD反应能在粉末表面顺利进行

   

科民电子粉末镀膜原子层沉积设备的成功研发,为催化、环境、电池材料等领域的用户提供了可靠的粉体镀膜方案,为相关领域用户取得更多的科研成果及技术突破提供了新的解决方案