粉末型(P-ALD)
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科民电子研发的粉末镀膜设备为三腔结构,真空腔体内部放置一个粉末镀膜反应腔,粉末镀膜反应腔内部包含有最多4个独立的样品仓,可一次沉积4种不同的粉末品。采用精密的反应气场控制,可以同时在四种不同纳米粉末上均匀生长薄膜材料;ALD反应所需的前驱体源通过两个独立的进气通道进入粉末镀膜反应腔,在经过样品仓后通出。避免了CVD反应,气流带动粉末在样品仓内进行轻微运动,使ALD反应能在粉末表面顺利进行